Intel первой запустила массовое производство чипов с использованием High NA EUV от ASML

Компания Intel стала первой в мире, кто начал массовое производство логических чипов с использованием литографии High NA EUV от ASML. Технология применяется для отдельных слоёв процессоров Intel Core Ultra Series 3 (Panther Lake), изготовленных по техпроцессу Intel 18A. ASML официально подтвердила этот факт, отметив, что выход годных чипов на новом оборудовании соответствует показателям существующих систем EUV.

High NA EUV — это следующее поколение литографических систем, которое позволяет печатать более миниатюрные и сложные схемы на кремниевых пластинах. В отличие от традиционных EUV-сканеров с числовой апертурой 0.33, новая технология использует апертуру 0.55, что обеспечивает более высокую разрешающую способность и точность. Это критически важно для дальнейшего масштабирования полупроводниковых технологий, особенно в условиях растущего спроса на вычислительные мощности для задач искусственного интеллекта.

Intel внедрила High NA EUV не для всех слоёв чипа Panther Lake, а лишь для отдельных, наиболее требовательных к точности. Остальные элементы процессора продолжают изготавливаться с использованием традиционных литографических методов. Такой подход позволяет компании постепенно интегрировать новую технологию, сохраняя гибкость производства и оптимизируя выход годных изделий. В будущем High NA EUV планируется использовать для более широкого спектра слоёв, включая техпроцесс Intel 14A.

По словам генерального директора ASML Кристофа Фуке, внедрение High NA EUV открывает новые возможности для создания более плотных и производительных чипов. Технология позволит сократить зависимость от многоэтапных процессов литографии, что упростит производство и повысит качество конечных продуктов. Это особенно актуально для разработки процессоров следующего поколения, где требования к плотности транзисторов и энергоэффективности продолжают расти.